集成电路设计实验室简介，有没有人知道国家高性能集成电路上海设计中心这家事业单位的

来源：整理时间：2023-05-01 11:39:44 编辑：传声筒科技手机版

1，有没有人知道国家高性能集成电路上海设计中心这家事业单位的

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国家高性能集成电路（上海）设计中心一、中心简介国家高性能集成电路（上海）设计中心是国家科学技术部于2003年6月批准成立的设计中心。挂靠上海市科学技术委员会，是具有法人资格的非营利性事业单位。中心地点在上海浦东张江高科技园区张衡路428号。设计中心以开展自主知识产权的高性能集成电路设计技术研究；提供具有国际先进水平的高性能集成电路产品及相关软件产品和服务为主要任务。设计中心旨在促进科研机构、高等院校、企业和业务主管部门等具有优势单位的密切结合，充分利用技术优势，强化创新能力，带动国家高性能集成电路设计水平，促进高性能集成电路设计技术、产品的商品化、产业化，并推向国内、国际两个市场。福利：工资面议，提供宿舍（或住房补贴）、工作餐、交通费（或班车），缴纳“四金”，有带薪休假。

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2，厦门芯阳电子简介

厦门市芯阳科技有限公司是一家高新技术专业化公司，专门从事专用集成电路（ASIC）的设计、开发、生产和销售以及生产工艺的研发， FPGA和MCU相关产品的设计开发。公司聚集了多名经验丰富的集成电路设计、工艺、测试、系统应用方面的人才，他们在集成电路设计和半导体器件领域从事设计、开发、工艺研究、生产经营工作多年，与国内外的许多半导体工厂、研究所都有着密切的合作关系。公司已针对消费类电子市场，推出多款具有独立自主知识产权的产品，包括智能家电控制电路、应急灯控制电路、手机充电器控制电路和电源管理芯片。公司还将根据市场的需求，积极开发以高压MCU为内核的中高档消费类电子电路及LDO系列集成电路。公司可以根据客户提出的功能要求或提供的逻辑图进行TOP-DOWN设计，直至为客户生产出满足要求的各种集成电路。这样，客户将拥有自主知识产权的核“芯”，使客户的产品在激烈的市场竞争中赢得竞争优势。我们也可根据客户提供的集成电路样品，反向生产出满足客户要求的集成电路。地址：厦门软件园二期望海路23号405

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3，集成电路先导工艺研发中心怎么样

研究室简介：集成电路先导工艺研发中心围绕集成电路先导工艺技术研究，致力于CMOS前沿工艺技术、MEMS器件与集成技术研究、新原理的微细加工技术和设备研发，拥有一条完整的CMOS/MEMS工艺线和雄厚的工艺研发力量，是我国集成电路前沿研究领域的中坚力量，在CMOS器件成套工艺，MEMS制造技术和器件应用等方面做出了多项代表国家集成电路工艺研究水平的成果。研发中心现有一支结构合理，老、中、青三代相结合、朝气蓬勃的科研团队。实验室有固定在编人员80余人，包括研究员15人，副研究员及高级工程师10人，流动人员及在学硕士、博士研究生40余人，现任实验室主任为陈大鹏研究员。研发中心拥有一个净化面积达300平米的4英寸Mini CMOS工艺研发实验室和一个净化面积2200平米的8英寸CMOS先导工艺研发平台，具备国内一流的CMOS/MEMS器件加工及工艺整合环境，是一个功能完善的从事纳米尺度新型CMOS/MEMS器件与工艺研究的开放研发基地。研发中心现有两个主要研究方向，即CMOS先导工艺技术研究，MEMS器件与集成技术研究。该中心的目标是发展成为一个既能开展亚50纳米以下节点的CMOS工艺模块研究，也能满足MEMS工艺研究的多目标科研平台，并在此基础上，成为一个基于专业化技术协作，并能提供成熟的IC工艺模块和对外服务功能的MEMS制作工艺及IC集成技术平台，促使CMOS/MEMS技术走向市场化和实用化。

研究室简介：集成电路先导工艺研发中心围绕集成电路先导工艺技术研究，致力于cmos前沿工艺技术、mems器件与集成技术研究、新原理的微细加工技术和设备研发，拥有一条完整的cmos/mems工艺线和雄厚的工艺研发力量，是我国集成电路前沿研究领域的中坚力量，在cmos器件成套工艺，mems制造技术和器件应用等方面做出了多项代表国家集成电路工艺研究水平的成果。研发中心现有一支结构合理，老、中、青三代相结合、朝气蓬勃的科研团队。实验室有固定在编人员80余人，包括研究员15人，副研究员及高级工程师10人，流动人员及在学硕士、博士研究生40余人，现任实验室主任为陈大鹏研究员。研发中心拥有一个净化面积达300平米的4英寸mini cmos工艺研发实验室和一个净化面积2200平米的8英寸cmos先导工艺研发平台，具备国内...现任实验室主任为陈大鹏研究员;mems器件与工艺研究的开放研发基地，促使cmos/mems技术走向市场化和实用化。研发中心拥有一个净化面积达300平米的4英寸mini cmos工艺研发实验室和一个净化面积2200平米的8英寸cmos先导工艺研发平台，即cmos先导工艺技术研究、朝气蓬勃的科研团队，在cmos器件成套工艺，也能满足mems工艺研究的多目标科研平台，致力于cmos前沿工艺技术。实验室有固定在编人员80余人，老。该中心的目标是发展成为一个既能开展亚50纳米以下节点的cmos工艺模块研究，流动人员及在学硕士、青三代相结合，mems器件与集成技术研究，拥有一条完整的cmos/mems器件加工及工艺整合环境、mems器件与集成技术研究，成为一个基于专业化技术协作，是我国集成电路前沿研究领域的中坚力量，并能提供成熟的ic工艺模块和对外服务功能的mems制作工艺及ic集成技术平台，具备国内一流的cmos/，并在此基础上，副研究员及高级工程师10人。研发中心现有两个主要研究方向，mems制造技术和器件应用等方面做出了多项代表国家集成电路工艺研究水平的成果、新原理的微细加工技术和设备研发、中。研发中心现有一支结构合理;mems工艺线和雄厚的工艺研发力量，是一个功能完善的从事纳米尺度新型cmos/研究室简介，包括研究员15人：集成电路先导工艺研发中心围绕集成电路先导工艺技术研究、博士研究生40余人

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